Zbog izvrsnih svojstava keramičkih dijelova kao što su otpornost na visoke temperature i otpornost na koroziju, često se koriste u različitoj poluvodičkoj ključnoj opremi. Poluvodički keramički dijelovi uključuju poluvodičke keramičke krakove, keramičke podloge, keramičke mlaznice, keramičke prozore, keramičke poklopce šupljina, porozne keramičke vakuumske čaše itd.
1. Poluvodički keramički krak
U procesu rada poluvodičke opreme, keramičke ruke su potrebne pri rukovanju pločicama, jer silicijske pločice ne mogu biti kontaminirane, tako da se općenito provodi u stvarno čistom okruženju zraka. U vakuumskom okruženju većina mehaničkih krakova izrađenih od drugih materijala ne može zadovoljiti zahtjeve, stoga je potrebno koristiti keramičke krakove s visokom temperaturnom otpornošću, otpornošću na trošenje i velikom tvrdoćom. Obično ljudi koriste aluminijev oksid visoke čistoće, silicijev karbid za pripremu keramičke ruke, ove dvije sirovine imaju visoku tvrdoću, otpornost na habanje i otpornost na visoke temperature i druga fizička svojstva, priprema keramičke ruke je odličan materijal. U usporedbi s ova dva materijala, izvedba keramičke ruke izrađene od silicij karbida bolja je od one keramičke ruke od aluminijevog oksida. Međutim, u usporedbi s aspektima cijene materijala i težine obrade, keramička ruka izrađena od aluminijevog oksida je isplativija, a aluminijeva keramička ruka obično se više koristi.
2. Keramička podloga
Keramička podloga uglavnom se koristi u različitim područjima elektroničkog pakiranja, kao što su pakiranje energetskih elektroničkih uređaja, pakiranje lasera, pakiranje svjetlećih dioda, termoelektrični rashladni paket, pakiranje elektroničkih uređaja za visoke temperature, pakiranje drugih energetskih uređaja. Budući da opći materijal ne može izdržati visoke temperature, u normalnim okolnostima, proces elektroničkog pakiranja koristi toplinsku vodljivost i toplinsku otpornost, visoku čvrstoću, visoku pouzdanost keramičkih proizvoda. Ljudi često koriste aluminijev oksid, silicijev nitrid i druge materijale za pripremu keramičkih podloga.
3 keramička mlaznica
Kod HDP-CVD, reakcijski plin ulazi u reakcijsku komoru kroz keramičku mlaznicu koja povezuje unutrašnjost i vanjštinu komore, tako da kvaliteta mlaznice izravno određuje čistoću i brzinu protoka reakcijskog plina. Aluminijev oksid i aluminijev nitrid obično se koriste za pripremu keramičkih mlaznica. Budući da keramika aluminijeva nitrida ima bolju toplinsku vodljivost i otpornost na toplinske udare od aluminijevog oksida, mlaznice neće uzrokovati onečišćenje nečistoćama zbog plazma korozije, niti će uzrokovati onečišćenje nečistoćama zbog toplinske deformacije uzrokovane trošenjem dijelova sklopa. Time se osigurava da mlaznice ne predstavljaju nikakav rizik od kontaminacije reakcijskog plina i reakcijske komore nečistoćama i mogu bolje ispuniti zahtjeve primjene u naprednoj HDP-CVD opremi.
4. Keramički prozori
Keramički prozor je ključna komponenta koja se široko koristi u strojevima za jetkanje poluvodiča. Kao poklopac komore u stroju za jetkanje, koristi se u strojevima za plazma jetkanje. Nalazi se između komore stroja za jetkanje i zavojnice za spajanje plazme. Dizajniran je za prijenos RF (radio frekvencije) i mikrovalne energije u komoru za plazma jetkanje dok se odupire eroziji u oštrom okruženju plazma jetkanja. Učinkoviti keramički prozori imaju male gubitke vrijednosti tangensa kuta (visoku propusnost) na RF i mikrovalnim frekvencijama. U suprotnom, energija se može apsorbirati i pretvoriti u previše topline, čime se degradira i proces (gubitak RF energije) i komponenta (previše topline i toplinski gradijent). U pripremi ovog proizvoda obično se koriste dva napredna keramička materijala visoke čistoće aluminijevog oksida i itrijevog oksida, a proizvodi koji zadovoljavaju zahtjeve primjene mogu se dovršiti strogim procesima kalupljenja, sinteriranja i završne obrade i površinskog prskanja.
5. Keramički poklopac šupljine
Keramički poklopac šupljine integrirana je neovisna funkcionalna komponenta koja uključuje keramičku kupolu, sustav hlađenja i sustav kontrole elektroda. To je jedna od ključnih komponenti u opremi za taloženje tankog filma od 40n i niže, a njegova izvedba je ključna za osiguranje kvalitete pločica. Keramički poklopac šupljine prekriven je gornjim dijelom pločice, a šupljina CVD uređaja je zapečaćena kako bi se stvorilo okruženje zatvorene komore. Članovi antene sa zavojnicama oko poklopca zvona mogu primijeniti visokofrekventnu snagu za stvaranje induciranog električnog polja za generiranje ICP (plazma) i uvesti ga u komoru kroz keramički poklopac šupljine kako bi se izvršila jednaka obrada iona i zaštitio nesmetan napredak taloženog filma. Keramički poklopac komore igra ključnu ulogu u brtvljenju, unutarnjoj i vanjskoj razlici tlaka i čistoći reakcijske komore te je jedna od najkritičnijih ključnih komponenti CVD opreme.
6. Keramička vakuumska sisaljka
Većina keramičkih komponenti koje se obično koriste u poluvodičkim uređajima su gusta keramika, ali vakuumska sisaljka je porozna keramika. Poluvodički materijal Silicijska pločica je tanak, tvrd i lomljiv materijal, čije obje strane treba brusiti i polirati, itd. Ljudi obično koriste vakuumske vakuumske čašice za lociranje i stezanje ove vrste obratka. Izvedba vakuumske sisaljke pripremljene tradicionalnim materijalima često ne zadovoljava zahtjeve uporabe. Nakon poboljšanja inženjerstva i tehnologije, ljudi obično koriste keramičke materijale za izradu vakuumske sisaljke. Vakuumska sisaljka koja se obično koristi je porozna struktura koja je napravljena od dva spojena keramička materijala. Porozna keramička ploča ugrađena je u upuštenu rupu baze, koja je spojena i zabrtvljena s bazom, koja je strojno izrađena od gustog keramičkog materijala koji ne propušta zrak. Iako su materijali dvaju dijelova različiti, njihova otpornost na trošenje i mehanička svojstva su slični. Time vakuumska sisaljka ispunjava zahtjeve uporabe.
Postoji mnogo keramičkih proizvoda za poluvodiče, možemo ponuditi proizvode prema vašim potrebama, dobrodošle su vaše konzultacije.
